A principios de noviembre de 2023 Canon anunció que tenía listo su primer equipo de litografía de nanoimpresión (se conoce como NIL por su denominación en inglés NanoImprint Lithography) capacitado para fabricar circuitos integrados de hasta 2 nm. Esta compañía japonesa comenzó a trabajar en la litografía NIL en 2004. Trece años después, en 2017, entregó el equipo FPA-1200NZ2C, su primera máquina NIL funcional, a Toshiba para que fuese instalada en su planta de producción de chips de memoria de Yokkaichi, en Japón.
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