En 2026 Rusia debería tener listo un prototipo de equipo de litografía UVE capaz de fabricar chips de 130 nm. Y en 2028 otro similar capacitado para producir circuitos integrados de 7 nm. Si finalmente Rusia consigue tener en 2028 un equipo de litografía UVE capaz de fabricar circuitos integrados de 7 nm se colocará inquietantemente cerca de EEUU y sus aliados en este terreno.

ASML es un líder tan indiscutible en el ecosistema de chips actual que cuesta creer que el dominio del mercado de la empresa se remonte realmente a 2017, cuando su máquina UVE, tras 17 años de desarrollo, puso patas arriba el proceso convencional de fabricación de chips. Canon y Nikon también estaban trabajando en UVE, pero el gobierno estadounidense les denegó la licencia para participar en el consorcio de empresas y laboratorios nacionales que lo estaban investigando. Ambas abandonaron el proyecto.

Estas CPU son las primeras fabricadas con la litografía Intel 4 de tipo ultravioleta extremo (UVE). Los procesadores Meteor Lake aglutinan tres tipos de núcleos diferentes para maximizar su eficiencia energética